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昊威環(huán)保 低溫等離子除臭設(shè)備 除臭設(shè)備

 
 
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更新 2015-07-31 16:58
 
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山東昊威環(huán)保科技有限公司

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技術(shù)簡介
擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的DDBD產(chǎn)品采用雙介質(zhì)阻擋放電形式產(chǎn)生等離子體,所產(chǎn)生等離子體的密度是其他技術(shù)產(chǎn)生等離子體密度的1500倍,我公司已研制出標(biāo)準(zhǔn)化廢氣治理設(shè)備,利用所產(chǎn)生的高能電子、自由基等活性粒子激活、電離、裂解工業(yè)廢氣中的各組成分,使之發(fā)生分解,氧化等一些列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),從而消除各種污染源排放的異味、臭味污染物,使有毒有害氣體達(dá)到低毒化、無毒化。
技術(shù)作用原理
    低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的 放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。(注:低溫等離子體相對于高溫等離子體而言,屬于常溫運(yùn)行。)
    DDBD等離子體反應(yīng)區(qū)富含極高的物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等,廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),使污染物質(zhì)在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較,DDBD等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍。
等離子體去除污染物的基本過程
過程一:高能電子的直接轟擊
過程二:O原子或臭氧的氧化
 O2+e→2O
過程三:OH自由基的氧化
H2O+e→OH+H
H2O+O→2OH
H+O2→OH+O
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